Publikace UTB
Repozitář publikační činnosti UTB
Nanoscale characterization of ultra-thin tungsten films deposited by radio-frequency magnetron sputtering
Repozitář DSpace/Manakin
Kontaktujte nás | Jazyk: čeština English
- Domovská stránka DSpace
- →
- Článek ve sborníku
- →
- Fakulta aplikované informatiky
- →
- Zobrazit záznam
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.
| Název: | Nanoscale characterization of ultra-thin tungsten films deposited by radio-frequency magnetron sputtering |
| Autor: | Martínek, Tomáš; Kudělka, Josef; Navrátil, Milan; Křesálek, Vojtěch; Fejfar, Antonín; Hývl, Matěj; Sobota, Jaroslav |
| Typ dokumentu: | Článek ve sborníku (English) |
| Zdrojový dok.: | IEEE-NANO 2015 - 15th International Conference on Nanotechnology. 2015, p. 510-513 |
| ISBN: |
|
| DOI: | https://doi.org/10.1109/NANO.2015.7388651 |
| Abstrakt: | In this article, atomic force microscopy was used for nanoscale characterization of ultra-thin tungsten films which were deposited on silicon substrate. Radio-frequency magnetron sputtering was used for tungsten deposition on the surface. © 2015 IEEE. |
| Plný text: | http://ieeexplore.ieee.org/document/7388651/ |
| Zobrazit celý záznam | |
Soubory tohoto záznamu
Citace ČSN ISO 690:2011
Citace článku v konferenčním sborníku:
MARTÍNEK, Tomáš, Josef KUDĚLKA, Milan NAVRÁTIL, Vojtěch KŘESÁLEK, Antonín FEJFAR, Matěj HÝVL a Jaroslav SOBOTA. Nanoscale characterization of ultra-thin tungsten films deposited by radio-frequency magnetron sputtering. In: IEEE-NANO 2015 - 15th International Conference on Nanotechnology [online]. Rome: Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE), 2015, s. 510-513. [cit. 2024-12-12]. Dostupné z: http://ieeexplore.ieee.org/document/7388651/.
Tyto citace vytvořil software a mohou obsahovat chyby. Pro ověření přesnosti si nastudujte příslušnou citační normu nebo příručku.
MARTÍNEK, Tomáš, Josef KUDĚLKA, Milan NAVRÁTIL, Vojtěch KŘESÁLEK, Antonín FEJFAR, Matěj HÝVL a Jaroslav SOBOTA. Nanoscale characterization of ultra-thin tungsten films deposited by radio-frequency magnetron sputtering. In: IEEE-NANO 2015 - 15th International Conference on Nanotechnology [online]. Rome: Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE), 2015, s. 510-513. [cit. 2024-12-12]. Dostupné z: http://ieeexplore.ieee.org/document/7388651/.
Tyto citace vytvořil software a mohou obsahovat chyby. Pro ověření přesnosti si nastudujte příslušnou citační normu nebo příručku.
